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影響擊穿電壓的因素介質(zhì)本征特性、微觀缺陷作用和外部條件

更新時間:2025-04-28      點擊次數(shù):193

影響擊穿電壓的因素介質(zhì)本征特性、微觀缺陷作用和外部條件

(一)介質(zhì)本征特性

原子電離能級:當(dāng)外加電場提供的能量達(dá)到介質(zhì)原子最外層電子的勢阱深度時,將引發(fā)電子雪崩效應(yīng)。例如,SiO? 的最外層電子勢阱深度為 8.4 eV。

晶體結(jié)構(gòu)各向異性:某些材料的晶體結(jié)構(gòu)在不同方向上的擊穿場強(qiáng)存在差異。例如,六方氮化硼(h-BN)沿 c 軸的擊穿場強(qiáng)比平面方向低 12% - 15%,而立方氮化硼(c-BN)各向異性差異小于 3%。

能帶間隙寬度:寬禁帶半導(dǎo)體(如 GaN,禁帶寬度 > 3.4 eV)相較硅(禁帶寬度 1.12 eV)具有更高的本征擊穿場強(qiáng),理論極限可提高 2.8 倍。

(二)微觀缺陷作用

孔隙度影響:當(dāng)陶瓷介質(zhì)孔隙率從 0.5% 增至 5% 時,擊穿電壓下降系數(shù)符合指數(shù)關(guān)系。具體公式為:Vb = Vb0(1 - ε/εc)^n,其中臨界孔隙率 εc ≈ 7.3%,n = 2.4。

位錯密度效應(yīng):每平方厘米的位錯密度每提升 1×10?/cm2,硅基介質(zhì)擊穿電壓下降 0.75% - 1.2%。

晶界偏析現(xiàn)象:雜質(zhì)在晶界的偏析會導(dǎo)致局部電阻率降低 2 個數(shù)量級,形成優(yōu)先擊穿路徑。

(三)外部條件作用

溫度響應(yīng)特征:不同材料在不同溫度下的擊穿電壓表現(xiàn)不同。例如:

硅橡膠的溫度系數(shù)為 - 12 mV/℃,即溫度升高時擊穿電壓降低。

藍(lán)寶石的溫度系數(shù)為 + 3.5 mV/℃,即溫度升高時擊穿電壓升高。

PMMA 在其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)附近會出現(xiàn)非線性突變。

場強(qiáng)調(diào)控方式:均勻場與極不均勻場的擊穿閾值差異可達(dá) 3.5 - 5 倍。例如,球 - 板電極的場強(qiáng)校正因子為 K = 0.65√(d/r) + 0.35,其中 d 為間距,r 為球半徑。

介質(zhì)厚度效應(yīng):介質(zhì)厚度與擊穿電壓之間存在 “厚度 - 強(qiáng)度" 折中關(guān)系,厚度區(qū)段由介質(zhì)損耗角正切值決定


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